ผงขัดเงา FO สำหรับขัดเวเฟอร์ขนาด 12 นิ้ว

ผงขัดเงา FO เป็นสารขัดถูคอมโพสิตความแม่นยำสูงที่ได้รับการปรับปรุงเป็นพิเศษสำหรับกระบวนการขัดผิวเรียบละเอียดพิเศษของเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์ขนาด 12 นิ้ว โดยใช้สูตรผสมอลูมินาและเซอร์โคเนียที่ได้รับการปรับปรุง ทำให้มีคุณสมบัติเด่นคือ การกระจายตัวของอนุภาคสม่ำเสมอ ความแข็งปานกลางและคงที่ และการแขวนลอยในสารละลายที่ดีเยี่ยม เหมาะอย่างยิ่งกับข้อกำหนดการขัดเงา CMP ที่เข้มงวดของเวเฟอร์ขนาดใหญ่

$18,000.00 /MT

ผงขัดเงา FO สำหรับขัดเวเฟอร์ขนาด 12 นิ้ว

ผงขัดเงา FO เป็นสารขัดถูคอมโพสิตความแม่นยำสูงที่ได้รับการปรับปรุงเป็นพิเศษสำหรับกระบวนการขัดผิวเรียบละเอียดพิเศษของเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์ขนาด 12 นิ้ว โดยใช้สูตรผสมอลูมินาและเซอร์โคเนียที่ได้รับการปรับปรุง ทำให้มีคุณสมบัติเด่นคือ การกระจายตัวของอนุภาคสม่ำเสมอ ความแข็งปานกลางและคงที่ และการแขวนลอยในสารละลายที่ดีเยี่ยม เหมาะอย่างยิ่งกับข้อกำหนดการขัดเงา CMP ที่เข้มงวดของเวเฟอร์ขนาดใหญ่
ผลิตภัณฑ์นี้ใช้ในกระบวนการขัดเงาละเอียดแบบครบวงจรสำหรับแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนขนาด 12 นิ้ว แกลเลียมอาร์เซไนด์ อินเดียมฟอสไฟด์ และแผ่นเวเฟอร์สารกึ่งตัวนำแบบผสมอื่นๆ ช่วยขจัดข้อบกพร่องขนาดเล็กบนพื้นผิว ร่องรอยการตัด และชั้นที่ไม่เรียบได้อย่างมีประสิทธิภาพ โดยไม่ก่อให้เกิดรอยขีดข่วน รอยบุ๋ม หรือคราบตกค้างบนพื้นผิว ทำให้ได้พื้นผิวที่เรียบเนียนเป็นพิเศษ และช่วยเพิ่มความเรียบ ความขนาน และผลผลิตโดยรวมของแผ่นเวเฟอร์ขนาดใหญ่ได้อย่างมาก
ด้วยความสม่ำเสมอของส่วนผสมที่คงที่และอัตราการกำจัดวัสดุที่ควบคุมได้ ทำให้เหมาะสำหรับการผลิตเวเฟอร์ขนาด 12 นิ้วจำนวนมากแบบอัตโนมัติ สามารถใช้ทดแทนผงขัดเงาคุณภาพสูงที่นำเข้าได้อย่างสมบูรณ์แบบ รองรับข้อกำหนดอนุภาคที่กำหนดเอง เหมาะอย่างยิ่งสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ การประมวลผลพื้นผิวชิปออปโตอิเล็กทรอนิกส์ และสถานการณ์ที่มีความแม่นยำสูงอื่นๆ เป็นวัสดุขัดเงาหลักที่มีประสิทธิภาพและเชื่อถือได้สำหรับการผลิตเวเฟอร์ขนาดใหญ่
ผงละเอียดออปติก FO
ผงละเอียดออปติก FO

คุณสมบัติทางกายภาพและองค์ประกอบทางเคมีของผงขัดเงาแสง %FO สำหรับการขัดเวเฟอร์ขนาด 12 นิ้ว

     รายการ          ขนาด  ความหนาแน่นสัมพัทธ์ (กรัม/ซม³)                                                                     เคมี(%)
              อัล2โอ3  ซิโอ2           เฟ2โอ3   ไทโอ2      ZrO2
      เอฟโอ           #800-#1200        ≥3.90               ≥45.0  ≤20.0            ≤0.5    ≤2.0      ≤33.0
       #1500-#3000        ≥3.90             ≥40.5  ≤20.0            ≤0.7     ≤2.0        ≤33.0

การกระจายขนาดอนุภาค (PSD) ของผงขัดเงา FO สำหรับการขัดเวเฟอร์ขนาด 12 นิ้ว

                 ขนาด                       ดี0                      ดี3                       ดี50                 ดี94
                #800                    ≤32.0                    ≤27.0                   11.3±0.9                 ≥6.5
               #1000                    ≤27.0                    ≤23.0                    9.4±0.8                 ≥5.0
               #1200                    ≤23.0                    ≤20.0                    7.1±0.7                 ≥4.0
               #1500                    ≤19.0                    ≤17.0                    5.5±0.5                 ≥3.0
               #2000                    ≤15.0                    ≤14.0                    4.5±0.4                 ≥2.0
               #3000                    ≤12.0                     ≤11.0                    3.6±0.4                 ≥1.5

การใช้งานหลักของผงไมโครออปติก FO

– การเจียรและการขัดแผ่นเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์

– การตกแต่งพื้นผิวของกระจกออปติกชนิดต่างๆ

– การเจียรและการขัดเลนส์ ปริซึม กระจก ตัวกรอง ฯลฯ ที่ทำจากผลึกทางแสง

– การตกแต่งพื้นผิวของวัสดุเพียโซอิเล็กทริก

 

การบรรจุผงละเอียดออปติก FO

ถุงพีวีซี 10 กก. + พาเลท

พีดีเอฟ

TDS ไม่ได้อัพโหลด

พีดีเอฟ

MSDS ไม่ได้รับการอัพโหลด

Scroll to Top